1. vopsea gazelor de epuizare.Dispozitiv de oxidare fotocatalizatoare UVPrincipiul

1, fisurarea gazelor nefericite, cum ar fi: amoniac, sulfură de hidrogen, hidrogen de metil, metanol, metanol, dimetil sulfur, disulfură de carbon și stirenă, sulfură H2S, clasa de COV, benzen, benzen, benzen.

Utilizarea de ozon ridicat de descompunere a moleculelor de oxigen din aer pentru a produce oxigen liber, adică oxigen activ, deoarece oxigenul liber are un dezechilibru de electroni pozitivi și negativi, astfel încât trebuie să se leage cu moleculele de oxigen și, prin urmare, să producă ozon, astfel încât moleculele poluanți în starea liberă și oxidarea ozonului să se leage în molecule mici fără compuși nocivi. CO2, H2O etc. UV + O2 → O - + O * (oxigen activ) O + O2 → O3 (ozon).

Utilizarea unui catalizator pentru reactia de oxidare-reducere; Utilizarea razelor UV, ozonului și catalizatorilor pentru a descompune în mod sinergic reacția oxidativă a gazelor rău miroase, transformând degradarea substanțelor gazelor rău miroase în compuși cu molecule scăzute, apă și dioxid de carbon.

Doi.Dispozitiv de oxidare fotocatalizatoare UVDomeniul de aplicare

Scopul de aplicare al echipamentelor de purificare a oxigenului cu lumină UV pentru gazele miroase (gazele de eșapament industriale): purificarea deodorantă a gazelor miroase, precum rafinăriile de petrol, fabricile de cauciuc și fabricile chimice.